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翁俊

【 發(fā)布日期:2016-07-10 | 點(diǎn)擊:




姓名:翁俊

職稱:講師

碩導(dǎo):是

郵箱:951152515@qq.com

地址:湖北省武漢市武漢工程大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院A206

教育及工作經(jīng)歷

2014年至今:武漢工程大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,材料物理專業(yè),講師

2011年-2014年:中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院等離子體物理研究所,等離子體物理專業(yè),博士學(xué)位

2008年-2011年:武漢工程大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,材料學(xué)專業(yè),碩士學(xué)位

2004年-2008年:武漢工程大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,材料物理專業(yè),學(xué)士學(xué)位

研究方向

低溫等離子體

金剛石

主講課程

材料導(dǎo)論(本科生)

等離子體化學(xué)與工藝(研究生)

等離子體診斷(研究生)

學(xué)生培養(yǎng)

自2014年入職以來,培養(yǎng)了6名碩士研究生,協(xié)助培養(yǎng)了20余名碩士研究生和1名博士研究生。

科研項(xiàng)目

1. 大尺寸單晶金剛石中NV色心分布的控制研究, 2020年,湖北省教育廳青年人才項(xiàng)目, 結(jié)題, 主持

2. 《專業(yè)設(shè)備升降機(jī)系統(tǒng)的研制》,2015年,橫向,在研,主持

3. 《微波等離子體外延生長(zhǎng)單晶金剛石工藝及設(shè)備的研發(fā)》,2017年,橫向,在研,主持

4. 《高質(zhì)量單晶金剛石的批量生長(zhǎng)工藝及高功率MPCVD設(shè)備的研發(fā)》,2022年,橫向,在研,主持

榮譽(yù)獲獎(jiǎng)

1. 武漢工程大學(xué)優(yōu)秀班主任

2. 武漢工程大學(xué)“百佳導(dǎo)師”稱號(hào)

代表性成果

1. J. Weng; F. Liu; Z. T. Wang; N.F. Guo; F.Y. Fan; Z. Yang; J.B. Wang; H. Wang; L.W. Xiong; H.Y. Zhao; J.H. Wang ; Investigation on the preparation of large area diamond films with 150–200 mm in diameter using 915 MHz MPCVD system, Vacuum, 2023, 217: 112543. (SCI收錄, 2區(qū))

2. B. Wang, J. Weng, Z.T. Wang, et al. Investigation on the influence of the gas flow mode around substrate on the deposition of diamond films in an overmoded MPCVD reactor chamber [J]. Vacuum, 182 (2020) 109659. SCI收錄, 2區(qū))

3. Weng J , Liu F , Xiong L W , et al. Deposition of large area uniform diamond films by microwave plasma CVD[J]. Vacuum, 2018, 147. SCI收錄, 2區(qū))

4. Weng J , Liu F , Xiong L W , et al. Investigation on the influence of high deposition pressure on the mcirostructure and hydrogen impurity incorporated in nanocrystalline diamond films[J]. Journal of Crystal Growth, 2018, 495:1-8. SCI收錄)

5. 王振湉, 翁 俊, 汪建華, 等. 氮?dú)鈱?duì)納米金剛石膜的生長(zhǎng)結(jié)構(gòu)及晶界處 H 含量的影響[J]. 中國(guó)表面工程, 2020 (1):39-46.(EI收錄)

6. 翁俊, 劉繁, 孫祁, 等. CO2-CH4沉積氣氛中金剛石膜晶粒尺寸的控制研究[J]. 表面技術(shù), 2018(1):211-217. (EI收錄)

7. 張青,翁俊,劉繁, 等. 高功率微波等離子體對(duì)單晶金剛石同質(zhì)外延生長(zhǎng)的影響[J].表面技術(shù), 2022(6): 364-373. (EI收錄)

8. 翁俊, 劉繁, 孫祁, 等. CO2-CH4沉積氣氛中金剛石膜晶粒尺寸的控制研究[J].表面技術(shù), 2018(1):211-217.(EI收錄)

9. 李廷垟,劉繁,翁俊, 等. MPCVD高功率外延生長(zhǎng)單晶金剛石均勻性研究[J],表面技術(shù), 2022 (EI收錄)

 

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